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Magnetron Sputtering Coater |
||
Low vacuum |
Magnetron sputtering |
900M(Single target) |
Plasma sputtering |
900 amd 800(Single target); SD-2000III(Three targets) |
|
Thermal evaporation |
800C and 980(Carbon rope, no target head) |
|
Magnetron sputtering + thermal evaporation |
900C(Single target), The other case is carbon rope |
|
High vacuum |
Magnetron sputtering |
SD-650MH(DC+ DC, DC + RF, RF+ RF) |
Thermal evaporation |
SD-100AF(Heat evaporation carbon rod, molybdenum boat, tungsten wire bar) |
Email: David@tmaxcn.com Wechat: 18659217588
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- Máquina de revestimento por pulverização catódica de magnetron de plasma RF de 5 cabeças para pesquisa de filme fino MGI
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- Forno CSS de Laboratório de Duas Zonas para Processamento Térmico Rápido até Wafer de 5" de Diâmetro a Máx. 800°C