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Forno CSS de Laboratório de Duas Zonas para Processamento Térmico Rápido até Wafer de 5" de Diâmetro a Máx. 800°C
Model Number:
OTF-1200X-RTP-II-5Porto de embarque:
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Laboratório Forno CSS de duas zonas para processamento térmico rápido de até 3" de diâmetro e 650ºC.Na próxima:
Máquina de revestimento por evaporação térmica ultrassônica de alto vácuo com quatro fontes de aquecimento (10-6 torr)
Forno CSS de Laboratório de Duas Zonas para Processamento Térmico Rápido até Wafer de 5" de Diâmetro a Máx. 800°C - OTF-1200X-RTP-II-5
O OTF-1200X-RTP-II-5 é um forno de processamento térmico rápido com câmara de quartzo de 11" de diâmetro interno. Ele é projetado para evaporação térmica ou CSS ( Sublimação Espaçada Fechada ) revestimento de filme de até 5" de diâmetro. Amostras circulares e 800°C Max. O forno é aquecido por dois grupos de aquecedores de halogênio (superior e inferior) separadamente com máx. 10ºC/s taxa de aquecimento. Dois controladores de temperatura de precisão de 30 segmentos são construídos com precisão de +/-1ºC. A porta RS485 e o software de controle estão incluídos para permitir a operação do forno e o registro do perfil de temperatura via PC. É uma excelente ferramenta para pesquisar filmes finos de nova geração para células solares, como células solares de CdTe, Sulfeto e Perovskita.
ESPECIFICAÇÕES:
Estrutura do forno & Câmara de vácuo |
· Dois controladores de temperatura. · A câmara é feita de tubo de quartzo fundido de alta pureza. · Tamanho do tubo de quartzo: 11" OD/10,8" ID x 9" A · Os flanges de vácuo são feitos de aço inoxidável 316. |
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Flanges a Vácuo
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· O flange superior com uma porta de vácuo KFD-25 e uma saída de gás (requer tubo de 1/4") pode deslizar para cima ou para baixo manualmente para carregar e descarregar substrato e material evaporado facilmente. · O flange inferior tem uma porta de vácuo KFD-25 com uma entrada de gás (tubo de 1/4" necessário) com válvulas de agulha. · A flange é vedada por o-rings duplos de silicone e pode atingir no máx. a pressão de vácuo de 10E-2 Torr por uma bomba mecânica de qualidade e 10E-5 Torr por uma bomba molecular (a bomba de vácuo não está incluída, solicite separadamente). · Um medidor de vácuo digital é instalado no flange superior. · O medidor de vácuo digital anticorrosivo de precisão está no pacote padrão (Desde 2016.03.24) . |
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Controle de Fluxo de Gás |
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· Dois aquecedores controlados independentemente com uma folga ajustável manualmente de 2 a 30 mm. · Lâmpadas halógenas de 20 peças são usadas como elemento de aquecimento para processamento térmico rápido. · Os aquecedores são feitos de aço inoxidável com camisa de água fria para reduzir a radiação de calor e permitir um resfriamento rápido. · 5" de diâmetro, o suporte de wafer circular é embutido no aquecedor superior para segurar o substrato. · Um conjunto de placas AlN de alta condutividade térmica ou placa de grafite (5" de diâmetro x 0,5 mm de espessura) está incluído (coloque na parte inferior para evaporar o material) · Um resfriador de água circulante de 58L/min está incluído para economizar a fonte de água (clique na imagem abaixo para ver as especificações detalhadas).
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· Dois controladores digitais de temperatura de precisão com 30 segmentos programáveis oferecem controle independente dos aquecedores superior e inferior. · Cada controlador tem a função de autoajuste PID para proteger os aquecedores de overshooting e uma função de alarme para evitar o superaquecimento e a quebra de um par térmico. · Interface de comunicação com PC e interface de comunicação O software é instalado para registrar o perfil de temperatura mostrado abaixo. · |
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· Temperatura máxima para cada aquecedor: <= 800ºC. · Diferença máxima de temperatura entre dois aquecedores: <= 300ºC depende do espaçamento entre dois aquecedores: o Espaçamento 30mm máx. diferença de temperatura: 315ºC @ apenas fundo de aquecimento |
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Aquecimento & Taxa de refrigeração |
· Aquecimento: < 8ºC/s (somente aquecedor único de aquecimento) · Arrefecimento: < 10ºC/s (600 - 100ºC) Máx. |
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Dois pares térmicos tipo K são instalados nos aquecedores superior e inferior separadamente. |
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Tensão de trabalho |
220VAC, monofásico, disjuntor de ar 60A necessário |
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Requisito de energia |
total de 9,5KW |
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Dimensões |
1085 mm L x 680 mm L x 1710 mm A |
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Peso de envio & Dimensão |
· Dois paletes: 525 lbs e 48" x 40" x 87" e 165 lbs com dimensão de 39x31x29" |
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· É necessária uma bomba de vácuo. Faça o pedido separadamente clicando na primeira imagem à esquerda abaixo. O nível de vácuo pode atingir < = 10E-2 torr por bomba mecânica. · Se você usar gás corrosivo, considere usar a bomba seca anticorrosiva mostrada na segunda imagem à esquerda abaixo (bomba Pfeiffer da Alemanha) a um custo extra. · Você pode escolher o sistema de fornecimento de gás MFC digital clicando na primeira imagem à direita abaixo. |
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garantia |
Limite de um ano com suporte vitalício (peças consumíveis, como tubo de quartzo e lâmpadas de aquecimento, não são cobertas pela garantia). |
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Portátil, software & Controle Wi-Fi (opcional) |
· Novo laptop com Microsoft Windows 10 e Microsoft Office 2013 (30 dias de avaliação gratuita) para uso imediato. · Sistema de controle de temperatura baseado em Labview ( EQ-MTS01 ) permite ao usuário editar o perfil de temperatura, gerenciar receita de tratamento térmico, registrar e plotar dados para fornos MTI. · Um controle remoto sem fio fornece até 300 metros de alcance operacional. · Os recursos acima estão disponíveis mediante solicitação por um custo extra (até US$ 1.000). Entre em contato conosco para mais informações. · Observação: O software é compatível apenas com Tmáx Controlador de temperatura Yudian |
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· Os fornos tubulares com tubo de quartzo são projetados para uso sob vácuo e baixa pressão < 0,2 bar / 3 psi / 0,02 Mpa. As pressões de vácuo só podem ser usadas com segurança até 1000°C. A taxa de fluxo para gases deve ser limitada a < 200 SCCM (ou 200 ml/min) para reduzir choques térmicos no tubo. · Atenção : Um regulador de pressão de dois estágios deve ser instalado no cilindro de gás para limitar a pressão abaixo de 3 PSI para operação segura. · O suporte para pés deste forno é projetado para transporte de curta distância na superfície plana |