Forno CSS de duas zonas com suporte giratório de wafer até 5x5" a máx. 800°C - OTF-1200X-RTP-II-5-R

O OTF-1200X-RTP-II-5-R é um forno de processamento térmico rápido avançado com câmara de quartzo de 11" de diâmetro interno e porta-amostras rotativo de 5"x5". Ele é projetado para revestimento de filme CSS até amostras de wafer circulares ou quadradas de 5" à temperatura de trabalho de 800°C Max. O forno é aquecido por dois grupos de aquecedores de halogênio (superior e inferior) separadamente com máx. 10 º C/s taxa de aquecimento. O porta-amostras superior é giratório para obter um revestimento de alta uniformidade. É uma excelente ferramenta para pesquisar filmes finos de nova geração para células solares, como CdTe, Sulfeto e P célula solar de erovskita.

ESPECIFICAÇÕES:

estrutura do forno	Forno, dois controladores de temperatura, medidores de vazão de gás de dois canais são integrados em uma estrutura móvel de liga de alumínio. A câmara é feita de tubo de quartzo fundido de alta pureza com dimensão de 11" OD/10,8" ID x 9" H. As flanges de vácuo são feitas de aço inoxidável 316 e levantadas por motor elétrico. Duas placas de aquecimento IR de 5" x 5" e o espaçamento são ajustáveis. O porta-amostras superior pode ser girado na velocidade de 0 a 7 RPM.
Flanges a Vácuo	O flange superior com uma porta de vácuo KFD-25 e uma saída de gás (requer tubo de 1/4") pode deslizar para cima ou para baixo manualmente para carregar e descarregar substrato e material evaporado facilmente. O flange inferior tem uma porta de vácuo KFD-25 com uma entrada de gás (tubo de 1/4" necessário) com válvulas de agulha. A flange é vedada por o-rings duplos de silicone e pode atingir no máx. a pressão de vácuo de 10E-2 Torr por uma qualidade bomba mecânica e 10E-5 Torr por uma bomba molecular (a bomba de vácuo não está incluída, por favor peça separadamente). Um medidor de vácuo digital é instalado no flange superior. O medidor de vácuo digital anticorrosivo de precisão está no pacote padrão (Desde 2016.03.24) .
Aquecedor e porta-amostras	Dois aquecedores controlados independentemente com folga ajustável manualmente de 2 a 30 mm. Lâmpadas halógenas de 20 peças são usadas como elemento de aquecimento para processamento térmico rápido. Os aquecedores são feitos de aço inoxidável com camisa de água fria para reduzir a radiação de calor e são capazes de resfriamento rápido. 5" de diâmetro, o suporte de wafer circular é embutido no aquecedor superior para segurar o substrato. Um conjunto de placas AlN de alta condutividade térmica (5" de diâmetro x 0,5 mm de espessura) está incluído (coloque na parte de trás do substrato para aquecê-lo uniformemente). Um resfriador de água circulante de 58L/min está incluído para economizar a fonte de água (clique na imagem abaixo para ver as especificações detalhadas). O porta-amostras superior é giratório em velocidade ajustável de 0 a 7 RPM
Controlador de temperatura	Dois controladores digitais de temperatura de precisão com 30 segmentos programáveis ​​oferecem controle independente dos aquecedores superior e inferior. Cada controlador tem uma função de autoajuste PID para proteger os aquecedores de overshooting e uma função de alarme para evitar que o superaquecimento danifique os pares térmicos. Interface de comunicação com PC e interface de comunicação O software está instalado para (clique na imagem abaixo para obter detalhes) registrar o perfil de temperatura mostrado abaixo.
Temperatura de trabalho	Temperatura máxima para cada aquecedor: ≤ 800ºC. Diferença máxima de temperatura entre dois aquecedores: ≤ 300ºC depende do espaçamento entre dois aquecedores: Espaçamento 30mm máx. diferença de temperatura: 315ºC @ apenas fundo de aquecimento
Aquecimento & Taxa de refrigeração	Aquecimento: < 8ºC/s (somente aquecedor único de aquecimento) Arrefecimento: < 10ºC/s (600 - 100ºC) Máx.
Casal Termal	Dois pares térmicos tipo K são instalados nos aquecedores superior e inferior separadamente.
Tensão de trabalho	208 - 240VAC, monofásico, disjuntor de ar 50A
Requisito de energia	10 KW no total
Dimensões	(clique na foto para ver a dimensão)
Peso de envio & Dimensão	Dois paletes: 525 lbs e 48" x 40" x 87" e 165 libras com dimensão de 39x31x29"
Opcional	É necessária uma bomba de vácuo. Faça o pedido separadamente clicando na primeira imagem à esquerda abaixo. O nível de vácuo pode atingir ≤ 10E-2 torr por bomba mecânica. Se estiver usando gás corrosivo, use uma armadilha fria ou uma bomba seca anticorrosiva mostrada na figura 2-3 a um custo extra. Você pode escolher o sistema de fornecimento de gás MFC digital clicando na primeira imagem à direita abaixo.
garantia	Limite de um ano com suporte vitalício (peças consumíveis, como tubo de quartzo e lâmpadas de aquecimento, não são cobertas pela garantia).
Notas de aplicativo e Avisos	Os fornos tubulares com tubo de quartzo são projetados para uso sob vácuo e baixa pressão < 0,2 bar / 3 psi / 0,02 Mpa. As pressões de vácuo só podem ser usadas com segurança até 1000°C. A taxa de fluxo para gases deve ser limitada a < 200 SCCM (ou 200 ml/min) para reduzir choques térmicos no tubo. UMA atenção : Um regulador de pressão de dois estágios deve ser instalado no cilindro de gás para limitar a pressão abaixo de 3 PSI para operação segura. O suporte para pés deste forno foi projetado apenas para transporte de curta distância em superfícies planas (sem buracos ou saliências).