fonte de alimentação rf

o sistema pecvd é composto por forno de tubo, câmara de vácuo de quartzo, sistema de vácuo, suprimento de gás sistema e sistema de fonte de alimentação de rf. usado principalmente em: filme de metal, filme de cerâmica, filme composto, grafeno e outro crescimento. é fácil aumentar a função de limpeza por plasma e gravação. o sistema pecvd tem vantagens de alta taxa de deposição, boa uniformidade, consistência e estabilidade.

faixa de saída de potência	0-500w
potência máxima refletida	200w
freqüência de trabalho	rf ： 13.56mhz ± 0,005%
estabilidade pw	+/- 0,1%
componente harmônico	≤ -50dbc
largura de rf	0-600mm ajustável
modo de correspondência	auto
modo de refrigeração	ar frio
ruído	& lt; 50db
interface rf	50. Ω tipo n
potência de entrada	208-240v 50 / 60hz

1 nós fornecemos máquinas com suporte à tecnologia de bateria.

2) Nós fornecemos conjunto completo de equipamento de bateria de lítio para pesquisa em laboratório, pesquisa em escala piloto e produção lin e

1 pacote exportado padrão: proteção anticolisão interna, embalagem de caixa de madeira para exportação externa.

2 transporte por expresso, por via aérea, por mar de acordo com as necessidades dos clientes para encontrar a maneira mais adequada.

3 responsável pelo dano durante o processo de envio, mudará a parte do dano para você de graça.