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Máquina de revestimento de matriz de extrusão de precisão de fenda lateral única para linha de produção de baterias

  • Model Number:

    TMAX-XHPT-5063-MM
  • Pagamento:

    L/C D/A D/P T/T Western Union
  • Delivery Time:

    90 days
Detalhes do produto

Máquina de revestimento de matriz de extrusão de precisão de fenda lateral única para linha de produção de baterias



1. Processo F baixo

O material de base da placa polar colocada no dispositivo de desenrolamento entra no sistema de tensão de desenrolamento após a correção automática e entra na cabeça de revestimento após o ajuste da tensão de desenrolamento. A placa polar é revestida de acordo com o procedimento de configuração do sistema de revestimento. A peça de eletrodo molhada revestida entra no forno e é seca por ar quente. A tensão da peça polar seca é ajustada pelo sistema de tensão e a velocidade do enrolamento é controlada para sincronizar com a velocidade do revestimento. A peça polar é retificada automaticamente pelo sistema retificador para mantê-la na posição definida e é enrolada pelo dispositivo de enrolamento.


2 . Equipamento C oposição

1) Mecanismo de desenrolamento

2) Mecanismo de revestimento

3) Forno

4) Mecanismo retificador de exportação

5) Mecanismo de descarga

6) Mecanismo do enrolador

7) Sistema de controle elétrico

8) Sistema de alimentação de precisão


3 . M ain P arameter

NÃO.

P projeto

P arameter

R marcas

1

Normal S fez xixi de C flutuando

≤2 4 m/min

A velocidade normal do revestimento está relacionada ao sistema de material, espessura do revestimento e teor de sólidos

2

Revestimento S fez xixi UMA precisão E erro

≤0,1m/min

3

Revestimento C idth

≤650mm

4

Revestimento eu comprimento ( S inglês P gelo)

≤2500mm

5

Revestimento M máquina S fez xixi

40m/min

6

No geral eu comprimento de C aveia

≤43m

Tem uma ótima relação com a configuração

7

Equipamento UMA ir P ressegurar

0,6 0,8 MPa

Seco e livre de impurezas

8

Solteiro S ideia C flutuando D ry T caipira E erro

Li(NiCoMn)O2 ,

LiFePO4,

C obalto±2μ

(Mn ± 2 μ )

Borda, cabeça e cauda 8mm estão excluídos

9

Dobro S ideia C flutuando D ry T caipira E erro

Li(NiCoMn)O2 ,

LiFePO4,

C obalto±3,0μm

(Mn ± 3 μ )

10

Solteiro S ideia C oito E erro em S inglês C quadril

±1,5%

Método de medição

(FIG. B )

11

Mínimo C flutuando eu Ength

20mm

12

Mínimo eu Ength D imensão de S inglês P velho P gelo

50mm

( O ne revestimento mais lacuna)

13

Mínimo eu Ength D imensão de S inglês D ouble S segmento P velho P gelo

100mm

( Dois revestimentos mais folga)

14

Solteiro S ideia T caipira E erro de E eletrodo H ler e T tudo

-10μm~ +5μm

15

Intervalo C flutuando M mínimo G ap

10mm

Com a velocidade de revestimento, quanto mais rápida a velocidade, maior a folga mínima .

16

Precisão E erro de C flutuando eu Ength

±1,0 mm

Dentro de 3000mm

17

Sobreposição E erro de F frente e B ack C flutuando

±0,5 mm

18

Sobreposição E erro de F frente e B ack C flutuando E borda

±0,5 mm

19

Beira você uniformidade E erro de C descobrindo

± 1 mm

(iniciar o cálculo após 5 voltas)

Φ rolo de 500mm



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