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Máquina de revestimento por pulverização catódica combinatória com três fontes de pulverização catódica de magnetron de 2'' e alimentação RF/DC
Model Number:
VTC-600-3HD-LDPorto de embarque:
XiamenMOQ:
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Revestimento de Plasma Sputtering Combinatório com Três Fontes de Sputtering Magnetron de 2'' e Fontes de Alimentação RF/DC
O VTC-600-3HD-LD é um sistema de plasma sputtering combinatório com três fontes de 2" magnetron sputtering e três fontes de alimentação RF/DC. Esse sistema de pulverização catódica é capaz de pulverizar até três materiais-alvo diferentes e criar vários perfis de composição no substrato (por exemplo, materiais ternários para bateria recarregável de íons de lítio) . Este sistema também é adequado para revestimento sequencial de filmes de múltiplas camadas, como ferroelétrico, liga, semicondutor, cerâmico, dielétrico, óptico, óxido, duro, PTFE, etc.
ESPECIFICAÇÕES
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Controle de Fluxo de Gás |
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Estação de Bomba de Vácuo
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Resfriador de água |
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Peso Líquido do Revestimento |
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Peso de envio & Dimensões |
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Observância |
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garantia |
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Notas de aplicação |
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