Características

• 5 pistolas de pulverização catódica para 5 materiais-alvo diferentes
• Dependendo das fontes de alimentação utilizadas (RF ou DC), podem ser depositados materiais metálicos e não metálicos.
• Capaz de pulverizar 5 materiais alvo para produzir várias composições através de diferentes tempos/taxas de pulverização
• Com 5 fontes de alimentação opcionais, 5 materiais alvo podem ser pulverizados ao mesmo tempo para pulverização combinatória
• 16 amostras podem ser depositadas em um lote com uma máscara e um porta-amostras giratório

Potência de entrada

• Monofásico 220 VCA, 50/60 Hz
• 1000 W (incluindo bomba de vácuo e refrigerador de água)

Fonte de energia

• Um gerador de RF de correspondência automática de 13,5 MHz e 300 W está incluído e conectado aos cabeçotes de pulverização catódica
• O interruptor rotativo pode ativar uma cabeça de pulverização de cada vez. As cabeças de pulverização catódica podem ser trocadas “no plasma” sem quebrar o vácuo durante um processo multicamada.
• Múltiplas fontes de alimentação de RF são opcionais, o que permite ao usuário sputter multi-alvo ao mesmo tempo para sputtering combinatório
• Laptop com software de controle está disponível a um custo extra para controlar o tempo e a potência de pulverização de cada pistola de RF

Opcional

• Você pode escolher fonte de alimentação DC para pulverização de alvo metálico
• Com cinco fontes de alimentação DC ou RF, 5 materiais alvo podem ser pulverizados ao mesmo tempo para pulverização combinatória

Cabeça de Pulverização Magnetron

• Cinco cabeças de pulverização de magnetron de 1" com jaquetas de resfriamento de água estão incluídas e inseridas na câmara de quartzo por meio de grampos rápidos
• A substituição do cabo RF pode ser adquirida na TMAX
• Um obturador operado manualmente é construído no flange (veja a foto nº 3)
• Um resfriador de água de recirculação controlado digitalmente de 10 L/min está incluído para resfriar cabeças de pulverização catódica
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Alvo crepitante

• Requisito de tamanho alvo: 1" de diâmetro x 1/8" de espessura máx.
• Faixa de distância de pulverização: 50 – 80 mm ajustável
• Faixa de ângulo de pulverização: 0 – 25° ajustável
• Alvo Cu de 1" de diâmetro e Al 2 O 3 alvo estão incluídos para teste de demonstração
• Vários alvos de pulverização catódica de óxido de 1" estão disponíveis mediante solicitação a um custo extra
• Para colagem de alvos, placas de suporte de cobre de 1 mm e 2 mm estão incluídas. Prata epóxi (Pic #1) e placas de suporte de cobre extra (Pic #2) podem ser encomendadas na TMAX

Câmara de vácuo

• A câmara de vácuo é feita de aço inoxidável 304 com nervura de reforço
• Dentro do tamanho da câmara de vácuo: 470 mm C × 445 mm P × 522 mm A (~105 litros, 18,5" x 17,5" x 20,5")
• Redondo 380 mm de diâmetro. porta tipo batente com janela de vidro de 150 mm de diâmetro
• Faixa de temperatura: -15 a 150 °C
• Nível de vácuo: 4.0E-5 torr com bomba turbo

Suporte de amostra

• Porta-amostras rotativo de 150 mm de diâmetro para revestimento 16 amostras um lote com diferentes composições
• O porta-amostras e a rotação da máscara podem ser controlados manualmente por um botão ou automaticamente por um software de controle (Opcional)
• A temperatura do porta-amostras é ajustável de RT a 600 °C no máximo

Bomba de vácuo

• A porta de vácuo KF40 é integrada para conectar a uma bomba de vácuo.
• Uma bomba turbo compacta está incluída
• 4.0E-5 Torr com bomba turbo opcional

Opcional

• O sensor de espessura de quartzo de precisão é opcional. Ele pode ser embutido na câmara para monitorar a espessura do revestimento com precisão de 0,1 Å (resfriamento a água necessário)
• Fácil conexão USB ao PC para monitoramento remoto da espessura e da velocidade do revestimento
• 5 sensores de quartzo (consumíveis) estão incluídos

Peso líquido

• 60kg

Observância

• aprovação CE
• A certificação MET (UL 1450) está disponível mediante solicitação a um custo extra, entre em contato com nosso representante de vendas para obter uma cotação.

garantia

• Um ano de garantia limitada com suporte vitalício

Notas de aplicação

• Este compacto revestidor de magnetron RF de 1" foi projetado para revestir filmes finos de óxido em substratos de cristal único de óxido, que geralmente não precisam de configuração de alto vácuo
• Um regulador de pressão de dois estágios (não incluído) deve ser instalado no cilindro de gás para limitar a pressão de saída do gás abaixo de 0,02 MPa para uso seguro. Use > Gás Ar de pureza 5N para pulverização catódica
• Para obter a melhor força de adesão filme-substrato, limpe a superfície do substrato antes de revestir:
• Limpeza ultrassônica com os seguintes banhos sequenciais - (1) acetona, (2) álcool isopropílico - para remoção de óleo e graxa. Seque o substrato com N2 e, em seguida, leve ao forno a vácuo para remover a umidade absorvida
• A limpeza de plasma pode ser necessária para tornar a superfície mais áspera, ativar ligações químicas de superfície ou remover contaminações adicionais
• Uma fina camada tampão (~ 5 nm), como Cr, Ti, Mo, Ta, pode ser aplicada para melhorar a adesão de metais e ligas

• Para melhor desempenho, os alvos não condutivos devem ser instalados com uma placa traseira de cobre. Por favor, consulte o vídeo de instruções abaixo (#3) para ligação alvo
• TMAX fornece substrato de cristal único de A a Z
• Os revestimentos de pulverização catódica TMAX RF revestiram com sucesso ZnO em Al 2 O 3 substrato a 500 °C
• Teste a flexibilidade do filme fino/eletrodo revestido com Testador de dobra de mandril EQ-MBT-12-LD .
• ALTA VOLTAGEM! As cabeças de pulverização se conectam à alta tensão. Por segurança, o operador deve desligar o gerador de RF antes do carregamento da amostra e das operações de mudança de alvo
• NÃO use água da torneira no refrigerador de água. Use refrigerante, água deionizada, água destilada ou aditivos anticorrosivos com água
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