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Magnetron Sputtering Coater

Máquina de revestimento por pulverização catódica de magnetron de plasma RF de 2 polegadas para películas finas não condutoras

  • Model Number:

    VTC-2RF
  • Porto de embarque:

    Xiamen
  • MOQ:

    1
  • Pagamento:

    L/C D/A D/P T/T Western Union
  • Delivery Time:

    5 days
Detalhes do produto

Revestimento de pulverização catódica de magnetron de plasma RF de 2 polegadas para películas finas não condutoras


O VTC-2RF é um sistema compacto de pulverização catódica de magnetron de plasma RF de cabeça única de 2" com revestimento não metálico, principalmente película fina de óxido. resfriador e monitor de espessura de filme, etc. É um revestidor excelente e econômico para revestir filmes finos de material não condutivo em P&D.

ESPECIFICAÇÕES

Potência de entrada

  • 220 VAC, 50/60 Hz, fase única
  • 800 W (incluindo bomba)
  • Se a tensão for de 110 VAC, é necessário um transformador de 1000 W, clique na imagem à esquerda para fazer o pedido

Fonte de alimentação

  • Um Gerador de RF de 13,5 MHz, 300 W com correspondência automática A função é construída no gabinete e conectada ao cabeçote de pulverização catódica de 2".
  • Opcional: fonte de energia DC sputtering está disponível para revestimento de material metálico

Cabeça de Pulverização Magnetron



  • Uma cabeça de pulverização magnetron de 2" com jaquetas de resfriamento de água está incluída e inserida na câmara de quartzo por meio de uma braçadeira rápida
  • Um obturador é construído no flange (operado manualmente)
  • Um resfriador de água de recirculação controlado digitalmente de 16 L/min é necessário para resfriar cabeças de pulverização catódica
  • A cabeça de pulverização catódica de 1" é substituível e opcional a um custo extra
  • O cabo RF de 148 cm é substituível com custo extra

Alvo crepitante

  • Requisito de tamanho alvo: 2" de diâmetro x 1/4" de espessura Máx.
  • Um alvo de SiO2 está incluído para teste de demonstração.
  • Al2O3 alvo cerâmico Recomendar Método de Revestimento
  • Alvos de pulverização catódica opcionais de 2" (com placa de apoio) estão disponíveis mediante solicitação a um custo extra.

Câmara de vácuo

  • Câmara de vácuo: 160 mm OD x 150 mm ID x 250 mm Altura. feito de quartzo de alta pureza
  • Flange de vedação: 165 mm de diâmetro. feito de alumínio com O-ring de silicone de alta temperatura
  • A cobertura de malha de aço inoxidável está incluída para proteger 100% da radiação de RF da câmara
  • Nível de vácuo: 1.0E-2 Torr com bomba mecânica de duplo estágio incluída e 1.0E-5 Torr com turbobomba opcional

Suporte de amostra

  • O porta-amostras é giratório e aquecível feito de um aquecedor de cerâmica com tampa de aço inoxidável
  • O tamanho do porta-amostras: 50 mm de diâmetro. para bolacha de 2" máx.
  • A velocidade de rotação é ajustável: 1 - 10 rpm para revestimento uniforme
  • A temperatura do suporte é ajustável de RT a 500°C Max com precisão de +/- 1,0°C via controlador de temperatura digital.
  • O porta-amostras de aquecimento de 800-1000ºC está disponível mediante solicitação.
  • A retenção de amostra de vibração opcional está disponível para revestimento de PVD de potência. (foto 3 abaixo)

Estação de Bomba de Vácuo


  • A porta de vácuo KF25 é construída para conectar a uma bomba de vácuo.
  • É necessária uma bomba de vácuo com adaptador KF25, mas não incluída. Clique na imagem para fazer o pedido separadamente.
  • Nível de vácuo: 1.0E-2 Torr com bomba mecânica de duplo estágio e 1.0E-5 Torr com turbobomba

Opcional

  • Sensor de espessura de quartzo de precisão opcional, que pode ser embutido na câmara para monitorar a espessura do revestimento com precisão de 0,10 Å. O laptop é necessário para corve de espessura de exibição

Dimensão total

Peso líquido

  • 70kg

Garantia e garantia Observância

  • Garantia limitada de um ano com suporte vitalício
  • Certificado pela CE
  • A certificação NRTL ou CSA está disponível mediante solicitação por um custo extra

Notas de aplicação

  • Este revestidor compacto de pulverização catódica de magnetron de 2" foi projetado para revestir filmes finos de óxido em substratos de cristal único de óxido, que geralmente não precisam de configuração de alto vácuo
  • Use > Gás Ar de pureza 5N para pulverização catódica
  • Para obter a melhor força de adesão filme-substrato, limpe a superfície do substrato antes de revestir:
    • Limpeza ultrassônica com os seguintes banhos sequenciais - (1) acetona, (2) álcool isopropílico - para remoção de óleo e graxa. Seque o substrato com N2 e, em seguida, leve ao forno a vácuo para remover a umidade absorvida
    • A limpeza de plasma pode ser necessária para tornar a superfície mais áspera, ativar ligações químicas de superfície ou remover contaminações adicionais
    • Uma fina camada tampão (~ 5 nm), como Cr, Ti, Mo, Ta, pode ser aplicada para melhorar a adesão de metais e ligas
  • Para obter o melhor desempenho, os alvos não condutivos devem ser instalados com uma placa traseira de cobre. Por favor, consulte o vídeo de instruções abaixo (#3) para a ligação do alvo
  • TMAX usa os Coaters revestiram com sucesso ZnO em Al 2 O 3 substrato a 500 °C (perfil XRD na foto nº 5)
  • NÃO use água da torneira no refrigerador de água. Use água deionizada, água destilada ou aditivos anticorrosivos como colante.

 Coater