Laboratório 3 Cabeças 1 Polegada RF Plasma Magnetron Sputtering Coater Machine com DC Magnetron Sputtering

Coater de pulverização catódica de magnetron de plasma compacto de 3 cabeças de 1 polegada, com opção de pulverização catódica de magnetron DC

Máquina de revestimento por pulverização catódica de magnetron de plasma RF de 2 polegadas para películas finas não condutoras

Revestimento de pulverização catódica de magnetron de plasma RF de 2 polegadas para películas finas não condutoras

Máquina de revestimento por pulverização catódica magnética Lab DC com estágio rotativo e resfriador de água

Revestimento de alta potência DC Magnetron Sputtering w Rotary Stage & Resfriador de água

3 Aquecedor da máquina de revestimento por pulverização catódica de alvo giratório (500C), incluindo 3 alvos

3 Revestimento por pulverização catódica de alvo rotativo w. Aquecedor de substrato (500C) incluindo 3 alvos

Máquina de revestimento por pulverização catódica de magnetron DC de laboratório com alvo para revestimento de metal nobre

Compact DC Magnetron Sputtering Coater com Alvo Dourado para Revestimento de Metal Nobre

Máquina de revestimento PVD de pó de laboratório com estágio de vibração e pulverização de magnetron DC

Revestimento PVD em pó compacto com pulverização catódica e amp; Estágio de Vibração

Máquina de revestimento por pulverização catódica de magnetron de plasma RF de 5 cabeças para pesquisa de filme fino MGI

Revestimento de pulverização catódica de magnetron de plasma de 5 cabeças personalizado para pesquisa de filme fino MGI

Máquina de revestimento por pulverização catódica combinatória com três fontes de pulverização catódica de magnetron de 2'' e alimentação RF/DC

Revestimento de Plasma Sputtering Combinatório com Três Fontes de Sputtering Magnetron de 2'' e Fontes de Alimentação RF/DC

Máquina de revestimento por pulverização catódica de plasma DC/RF de cabeça dupla a vácuo de laboratório de 2 polegadas

Revestimento por pulverização catódica de plasma de cabeça dupla DC/RF de alto vácuo de 2 polegadas com magnetron

Lab DC Vacuum Ion Sputtering Coater Coater com tamanho de câmara de 150*120mm

Lab DC Vacuum Ion Sputtering Coater Coater com tamanho de câmara de 150*120mm Introdução Revestimento de Ion Sputtering (Modelo SD900) é ideal e projetado para preparação de amostras de laboratório SEM. É amplamente utilizado para revestir amostras SEM não condutivas com Au para obter uma melhor imagem. Também é excelente para tratamento de superfície. A pressão de vácuo de trabalho pode ser alcançada rapidamente em 2 minutos ao usar a bomba de vácuo adequada. Gera muito menos calor. É amigável e fácil de operar. A bomba de vácuo está incluída. Parâmetro Vácuo p árbitro s et ( O eu necessito) r otário v vácuo p árbitro Rotativo p arbitragem s fez xixi 50Hz: 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/60Hz: 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vácuo eu imitar 2 pa Corrente máxima de pulverização 0-20mA Trabalhando p ressegurar 30Pa - 7 pa aspirar ti mim <5 Min( 2 Pa) Vácuo m facilidade Alcance de medição da atmosfera até 2*10 -2 mbar Gás c controlar Gás f baixo c controlador Câmara s tamanho Φ 15 0* 12 0 mm (altura) vidro de quartzo resistente a arranhões Magnetrão t argumentar s fonte Tamanho alvo φ 50* 0,1 milímetros( UMA você)/ t fonte de arget: Au, Ag, Pt Operação m método Manual de Instruções eu Peso/ s tamanho 45 kg/ 36 0mm comprimento x 30 0mm de largura x 38 0mm de altura Poder s abastecer CA 110 V 60 Hz ou CA 220 V 50 Hz Poder c consumo < 15 00W Resfriamento m método Ar c babando garantia Garantia limitada de um ano com suporte vitalício ao produto t

Revestimento por pulverização catódica de íons magnéticos de alto vácuo DC ou RF

Revestimento por pulverização catódica de íons magnéticos de alto vácuo DC ou RF Introdução Alto Revestimento de pulverização catódica de íons de magnetron a vácuo é ideal e projetado para ciência de materiais e preparação de amostras. É amplamente utilizado pela maioria das universidades e institutos de pesquisa científica de ciência e engenharia de materiais para revestir metais, cerâmicas, semicondutores, isoladores ou outros tipos de preparação de material de membrana. O revestidor de íon magnetron de alto vácuo fornece o ambiente de pulverização catódica mais estável e atinge as condições experimentais básicas de pulverização catódica em um período de tempo muito curto. Ele fornece DC / RF dois tipos de opções de potência de pulverização catódica que permitem a pulverização catódica de substâncias condutoras ou não condutoras na amostra e melhora o desempenho da deposição física de vapor (PVD). Também é excelente para tratamento de superfície e revestimento. É fácil de operar e amigável também. Bomba de vácuo e chiller estão incluídos. Parâmetro Vácuo p árbitro s et ( O eu necessito) r otário v vácuo p ump+( o estou livre) t urbano m oleculano p conjunto de arbitragem Rotativo p arbitragem s fez xixi 50Hz: 16 m³ / h (4,4 L/s)/ 60 Hz: 19,2 m³ /h (5,2 L/s) Molecular p arbitragem s fez xixi 300 l/ s Vácuo eu imitar 5* 10 -5 pa Trabalhando p ressegurar 0,5-5 Pa aspirar t eu mim >10 Min(10 -3 Pa) Vácuo m facilidade Alcance de medição da atmosfera até 1*10 -6 pa Gás c controlar Gás f baixo c controlador Câmara s tamanho φ260*200mm (altura) m etal Magnetrão t argumentar s fonte Tamanho alvo φ 50*3mm(Cu)/ t fonte de arget: W comer m agnético s substância / m materiais Operação m método Manual de Instruções eu Peso/ s tamanho 100kg/610mm comprimento x 420mm largura x 490mm de altura Poder s abastecer CA 110 V 60 Hz ou CA 220 V 50 Hz Poder c consumo <3000W Resfriamento m método Ar c ooling( p ump)+ W depois c ooling( s puttering t Arget) garantia Garantia limitada de um ano com suporte vitalício ao produto

DC Vacuum Portable Auto Ion Sputtering Coater para preparação de amostra SEM condutiva

DC Vacuum Portable Auto Ion Sputtering Coater para preparação de amostra SEM condutiva Introdução Compactar Revestimento Automático de Ion Sputtering (Modelo SD800) que é ideal e projetado para preparação de amostras de laboratório SEM. É amplamente utilizado para revestir amostras SEM não condutivas com Au para obter uma melhor imagem. Também é excelente para tratamento de superfície. A pressão de vácuo de trabalho pode ser alcançada rapidamente ao usar bomba de vácuo adequada. Gera muito menos calor. É amigável e fácil de operar usando o controle de tempo. A bomba de vácuo está incluída. Parâmetro Vácuo p árbitro s et ( O eu necessito) r otário v vácuo p árbitro Rotativo p arbitragem s fez xixi 50Hz: 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60Hz: 9 . 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) aspirar t eu mim < 2 mín. Câmara s tamanho Φ 115 * 1 00mm (altura) vidro de quartzo resistente a arranhões Magnetrão t argumentar s fonte Tamanho alvo φ 50* 0,1 milímetros( UMA você)/ t fonte de arget: Au, Ag, Pt Operação m método Manual de Instruções eu Peso/ s tamanho 4 0kg/ 307 mm comprimento x 26 0mm de largura x 26 0mm de altura Poder s abastecer CA 110 V 60 Hz ou CA 220 V 50 Hz Poder c consumo < 15 00W Resfriamento m método Ar c babando garantia Garantia limitada de um ano com produto vitalício Apoio, suporte

Vacuum Pulsing Thermal Evaporating Sputtering Coating Coater com bomba de vácuo

Vacuum Pulsing Thermal Evaporating Sputtering Coating Coater com bomba de vácuo Introdução Automático Revestimento de Carbono de Evaporação Térmica Pulsante (Modelo SD980) que é ideal e projetado para preparação de amostras de laboratório SEM. O revestidor de carbono modelo SD980 é um revestidor de carbono totalmente automatizado que aplica um filme fino de carbono condutor em uma superfície de amostra. A aplicação desse revestimento a uma amostra não condutora é uma técnica de preparação eficaz para diminuir artefatos de elétrons carregados para análise em um SEM. Um modo pulsado para proteger as amostras também está incluído. A pressão de vácuo de trabalho pode ser alcançada rapidamente ao usar a bomba de vácuo adequada. É amigável e fácil de operar controlando a potência de aquecimento da tela sensível ao toque (corrente) e os tempos de pulsação (receita). A bomba de vácuo está incluída. Parâmetro Vácuo p árbitro s et ( O eu necessito) r otário v vácuo p árbitro Rotativo p arbitragem s fez xixi 50Hz: 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/60Hz: 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vácuo eu imitar 2 pa Corrente máxima de evaporação 80A Trabalhando p ressegurar 6Pa - 4 pa aspirar t eu mim <5 Min( 2 Pa) Vácuo m facilidade Alcance de medição da atmosfera até 2*10 -2 mbar Câmara s tamanho Φ 15 0* 12 0 mm (altura) vidro de quartzo resistente a arranhões Evaporação t argumentar s fonte Alvo material: corda de carbono / t fonte de arget: corda de carbono Operação m método Manual de Instruções eu Peso/ s tamanho 45 kg/ 39 0mm comprimento x 31 0mm de largura x 2 90mm de altura Poder s abastecer CA 110 V 60 Hz ou CA 220 V 50 Hz Poder c consumo < 2 000W garantia Garantia limitada de um ano com suporte vitalício ao produto